今日，光刻胶板块领涨A股市场，截至发稿，容大感光20CM涨停，格林达、晶方科技涨停，康鹏科技涨超13%，波长光电涨超12%，安集科技涨超9%，盛剑环境、蓝英装备、苏大维格、南大光电、同益股份等跟涨。

消息面上，光刻机概念股广信材料昨日发布2023年半年度报告，上半年公司实现营业收入2.43亿元，归母净利润1,989.05万元，同比实现扭亏并大幅增长227.57%。

另外，电子材料咨询公司TECHCET报告指出，预计全球光刻胶市场将在2024年实现反弹，增长7%，总额达到25.7亿美元。

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光刻胶需求持续增长

在5G、物联网、智能汽车、云服务等下游旺盛需求的驱动下，全球半导体需求逐渐提升。而光刻胶为集成电路中极为重要的材料，作为图形媒介物质，用于芯片制造的光刻环节，是必不可缺的关键材料。

在传统的光刻机的研发层面，目前难题在于制造的精度上，对于芯片制造工艺来说，通过多重曝光技术可以实现更高的精度，但随着曝光次数的增加，光刻次数在增加，光刻胶需求也将随之大幅提升。

光刻胶作为光刻过程的关键耗材，也因其高壁垒、高价值量的特点，被荷兰 ASML、日本佳能、尼康三大巨头垄断。

据芯思想Chipinsights数据显示，在2022出货的551台光刻机中，ASML累计出货345台，佳能176台，尼康30台。销售额方面，ASML为绝对龙头，占据82%的市场份额。

然而，值得注意是，荷兰此前发布的光刻机出口管制细则将于明日（9月1日）生效。伴随荷兰、日本、美国加大半导体设备出口限制风险升级，将进一步推动中国半导体国产化率提升。

与此同时，随着全球晶圆制造的重心和产能分布逐渐移向东亚地区转移，我国光刻胶市场规模有望显著增长。

根据Techcet数据，预计2021年全球光刻胶市场规模达19.88亿美元，2025年有望达24.66亿美元，5年CAGR达6.11%。2021年中国大陆地区的光刻胶市场规模达到13.39亿美元，CAGR11%，增长速度为国际光刻胶市场的两倍。

我国有望承接半导体光刻胶产业链转移

值得关注的是，电子材料咨询公司TECHCET首席策略师Karey Holland博士指出：“增长最快的光刻胶产品是EUV和KrF，因为这两种产品都用于引入先进逻辑和存储器等新技术。”

随着高端光刻胶需求增加，国内外厂商将逐鹿KrF、ArF（可用于EUV工艺）光刻胶。而制造8寸、12寸晶圆需使用KrF、ArF光刻胶，全球8寸/12寸晶圆厂扩产将带动KrF、ArF光刻胶需求。

根据SEMI数据，2026年全球300mm（12寸）晶圆厂产能有望提高至960万片/月；全球半导体制造商预计将从2021年到2025年将200mm晶圆厂产能提高20%，新增13条200mm生产线，产能有望超700万片/月。

需求端方面，据TECHCET数据，2025年，KrF/ArF光刻胶市场规模分别为9.07/10.72亿美元，故未来KrF、ArF光刻胶将成为国内外厂商主要竞争市场。

据IDC及芯思想研究院统计，截至2021年，我国6英寸及以下晶圆制造线装机产能约420万片等效6英寸晶圆产能，8英寸、12英寸 晶圆制造厂装机产能分别为125万片/月、131万片/月，预计到2024年8英寸、12英寸将达到187与273万片/月，年均复合增速分别 为14.37%、27.73%。

因此我国大陆晶圆厂新产能建设在本轮扩产中处于全球领先地位，光刻胶需求增长更快。

对此，太平洋证券认为，伴随晶圆制造规模持续提升，中国有望承接半导体光刻胶产业链转移。

相关概念股一览：

彤程新材：目前生产半导体光刻胶、显示面板光刻胶等，半导体光刻胶还包括G线、I线、KrF光刻胶。主要国内客户包括中芯国际、华虹集团、长江存储、长鑫存储等几十家客户。

瑞联新材：光刻胶材料产品以半导体光刻胶单体和显示用高端光刻胶为主，其中半导体光刻胶单体主要面向国外光刻胶领域的知名企业，显示用高端光刻胶主要面向国内客户。

福晶科技：晶体龙头，曾为ASML的供应商。光刻机光学方面，公司前期曾通过欧洲代理向ASML供应少量光学元件，公司晶体核心产品LBO、BBO市占率达80%。

茂莱光学：工业精密光学龙头，为上海微批量供应光刻机透镜。光刻机光学领域，公司主要供应光刻机光学系统照明、曝光模块使用的透镜，主要客户为上海微电子。半导检测设备测光学领域，公司主要供应物镜、透镜，主要客户为康宁、Camtek、KLA等。

腾景科技：多波段合分束器已进入样品验证阶段。1）腾景科技主营产品为精密光学元组件、光纤器件。光学元组件产品主要包括平面光学元件、球面光学元件、模压玻璃非球面透镜、光学组件等；光纤器件产品主要包括镀膜光纤器件、准直器、声光器件等。2）光刻机光学领域，多波段合分束器已完成产品开发，成功进入半导体微电子设备厂供应链。

炬光科技：光场匀化器成功进入ASML供应链。公司多年来一直为半导体光刻应用领域提供光刻机曝光系统中的核心激光光学元器件光场匀化器，最终应用于全球高端光刻机生产商ASML的核心设备。

奥普光电：蔡司的间接供应商，主要供应K9光学玻璃、人造萤石（CaF2)等高端光学材料，系长春光机所控股公司。公司大股东为长春光机所（中国科学院长春光学精密机械与物理研究所），持有42.4%股权，长春光机所于2002年研制国内第一套EUV光刻原理装置，2016年成功研制波像差优于0.75nm RMS的两镜EUV光刻物镜系统，2017年32nm线宽的13.5nmEUV 光刻曝光系统通过验收。

苏大维格：研发生产投影式光刻机用定位光栅部件，主要客户为上海微电子。

晶方科技：通过收购荷兰子公司打入ASML供应链，拥有混合镜头、晶圆级微型光学器件工艺技术设计、特性材料及量产能力，其产品可广泛应用于半导体精密设备、工业自动化、汽车、安防、3D 传感器等应用领域。

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